陶氏電子材料推IKONIC 4000新CMP研磨墊

陶氏化學公司旗下的陶氏電子材料事業群，日前推出了IKONIC 4000系列的化學機械研磨(CMP)研磨墊產品，該系列研磨墊初期將主要面向鈰基應用。

陶氏電子材料事業群的CMPT市場營銷總監Colin Cameron表示，業界對於IKONIC技術的總體反映出奇的好，IKONIC 4000系列提供了最尖端的產品設計所普遍需要的很多重要的特性。這些研磨墊具備高度的可調性，能夠進行定制，以應對特定的要求。陶氏的大批量製造方法，以及對於工藝控制的專注，確保了客戶的工藝過程中的一致性和可靠性，進一步地提高了產品效能。

新的IKONIC 4000系列產品解決了以往在尖端研磨要求和低缺陷率之間的取捨難題。其全新的化學原理在整個研磨墊使用壽命內均可提供穩定的去除速率，使其特別適合用於與鈰基研磨相關的高難度領域。與業界標準IC1000研磨墊相比，IKONIC 4000系列產品在成品缺陷率方面改進了70%。

IKONIC 4000系列產品是陶氏與客戶協作開發的成果，目前可提供多種型號，涵蓋範圍很廣的硬度和孔洞率。籍此可以實現定制以便應對具體的客戶要求。這些研磨墊還進行了優化，以便使研磨墊的修整更為簡便，並使研磨墊在整個使用壽命裡均保持穩定的紋理。

IKONIC平台將一整套獨特的化學特性與靈活的設計密度結合在一起，為客戶提供了範圍很廣的定制解決方案。這些研磨墊旨在改進缺陷率表現，從而提高晶圓良率，並使研磨墊使用壽命更長，從而實現更高的設備使用效率。

針對產出量和選擇性方面的要求，IKONIC CMP研磨墊可以實現廣泛的去除率目標要求，從而滿足工藝方面的需要。選擇IKONIC系列的產品亦有助於提高研磨效率和晶圓形貌。這些優點使得IKONIC研磨墊平台成為各種高級研磨應用的完美選擇。